研究领域

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主要研究包括大尺寸光栅的制作技术，光栅的离子束刻蚀及实时监测技术，中阶梯光栅的制作，光栅掩膜的无损检测，光栅参数高精度测量等。也包括光栅在计量中的应用，如二维光栅尺，基于光栅的外差调制技术，外差型傅立叶变换光谱仪等。